I ricercatori dell’HHI del Fraunhofer Institute hanno migliorato ulteriormente le prestazioni del black silicon grazie ad impulsi di luce “su misura”
Il processo serve a strutturare la superficie integra atomi di zolfo nel reticolo di silicio, rendendo il materiale otticamente nero. Kontermann e i ricercatori del suo team all’Heinrich-Hertz-Institut (HHI), sono riusciti a migliorare ulteriormente l’efficienza di questi dispositivi, raddoppiandone addirittura le prestazioni. “Abbiamo ottenuto ciò modificando la forma dell’impulso laser usato per irradiare il silicio”, spiega lo studioso tedesco. Nel silicio convenzionale i raggi infrarossi non possiedono energia sufficiente ad eccitare gli elettroni nella banda di conduzione; lo zolfo incorporato nel silicio nero costituisce una sorta di livello intermedio che, se da una parte rende più facile per i fotoni raggiungere il bersaglio, dall’altro aumenta anche la possibilità che si perda energia. “Abbiamo usato gli impulsi laser per modificare lo zolfo incorporato in modo da minimizzare il numero di elettroni in grado di tornare indietro”. Il progetto è stato eletto tra i vincitori di “365 Places in the Land of Ideas” Concorso la cui cerimonia di premiazione si terrà a Goslar l’11 ottobre.